ПЛАЗМОВО-ІОННІ МЕТОДИ ЗМІНИ ЕКСПЛУАТАЦІЙНИХ ВЛАСТИВОСТЕЙ ПОВЕРХНЕВИХ ШАРІВ ОБРОБЛЮВАНИХ ДЕТАЛЕЙ

Автор(и)

  • O. O. Baranov Национальный аэрокосмический университет им. Н. Е. Жуковского, Україна
  • S. S. Horbenko Национальный транспортный университет, Україна

DOI:

https://doi.org/10.30977/BUL.2219-5548.2018.82.0.62

Ключові слова:

вал, поверхневий шар, іони, плазма, зміцнення, імпульс, магнетрон, мікротвердість, напруга

Анотація

Робота присвячена вирішенню задачі підвищення експлуатаційних характеристик деталей типу «вал» автомобільної техніки за рахунок зміцнення поверхневих шарів в установках плазмово-іонної обробки поверхні з використанням планарних магнетронних систем зі структурою порожнистого катода

Біографії авторів

O. O. Baranov, Национальный аэрокосмический университет им. Н. Е. Жуковского

доктор технических наук, доцент кафедры машиноведення и роботомеханичних систем

S. S. Horbenko, Национальный транспортный университет

аспирант кафедры производства, ремонта и материаловедения

Посилання

Anders A. From plasma immersion ion implantation to deposition: a historical perspective on principles and trends / A. Anders // Surface and coatings technology. - 2002, No. 156. P. 3-12.

Lieberman M.A. Principles of plasma discharges for materials processing / M.A. Lieberman, A.J. Lichtenberg // New York: Wiley Interscience, 1994. - 572 p.

F.F. Komarov, A.P. Novikov, A.F. Burenkov.(1994). Ionnaya implantatsiya [Ion implantation] / Minsk: Universitetskae, 303.

I.I. Aksenov, A.A. Andreev, V.G. Bren.(1979). Pokryitiya, poluchennyie kondensatsiey plazmennyih potokov v vakuume (sposob kondensatsii s ionnoy bombardirovkoy) [Coatings obtained by condensation of plasma streams in a vacuum (ion bombardment condensation method)] // UFZh - Ukrainian Journal of Physics, Vol. 24, 4, 515 – 525.

Anders A. Fundamentals of pulsed plasma for materials processing / A. Anders // Surface and coatings technology. 2004. V.183. P. 301 311.

Metel A. Plasma immersion ion implantation based on glow discharge with electrostatic confinement of electrons / A. Metel // Surface and coatings technology. 2002 V.156. Pp. 38 - 43

Ide-eqsaba A. Characteristics of an ion beam modification system with a linear ion source / A. Ide-Ektessabi, N.Y. Okuyama, D. Okuyama. // Review of scientific instruments. 2002. V.73, №2. Pp. 873 - 876.

Magnetic control of breakdown: Toward energy-efficient hollow-cathode magnetron discharges [Text] / O. Baranov, M. Romanov, S. Kumar, X. Zhong, K. Ostrikov // Journal of Applied Physics. 2011. - Vol. 109, No. 6. - P. 063304-1-063304-8.

Baranov, O. O.(2014). Teoreticheskaya model razryada magnetronnogo raspyilitelnogo ustroystva [Theoretical model of discharge of magnetron spray device] // Otkryityie informatsionnyie i kompyuternyie integrirovannyie tehnologii: sb. nauch. tr. Nats. aerokosm. un-ta im. N. E. Zhukovskogo «HAI» -Open information and computer integrated technologies: scientific journal of National aerospace university. N. E. Zhukovsky "KhAI",Vol. 64,102–119.

Wang Z. Geometrical aspects of a hollow-cathode planar magnetron / Z. Wang, S.A. Cohen // Physics of Plasma. 1999. - V.6. P. 1655 - 1666.

##submission.downloads##

Номер

№ 82 (2018)

Розділ

МАТЕРІАЛОЗНАВСТВО