DOI: https://doi.org/10.30977/BUL.2219-5548.2018.82.0.62

ПЛАЗМОВО-ІОННІ МЕТОДИ ЗМІНИ ЕКСПЛУАТАЦІЙНИХ ВЛАСТИВОСТЕЙ ПОВЕРХНЕВИХ ШАРІВ ОБРОБЛЮВАНИХ ДЕТАЛЕЙ

O. O. Baranov, S. S. Horbenko

Анотація


Робота присвячена вирішенню задачі підвищення експлуатаційних характеристик деталей типу «вал» автомобільної техніки за рахунок зміцнення поверхневих шарів в установках плазмово-іонної обробки поверхні з використанням планарних магнетронних систем зі структурою порожнистого катода

Ключові слова


вал; поверхневий шар; іони; плазма; зміцнення; імпульс; магнетрон; мікротвердість; напруга

Повний текст:

PDF

Посилання


Anders A. From plasma immersion ion implantation to deposition: a historical perspective on principles and trends / A. Anders // Surface and coatings technology. - 2002, No. 156. P. 3-12.

Lieberman M.A. Principles of plasma discharges for materials processing / M.A. Lieberman, A.J. Lichtenberg // New York: Wiley Interscience, 1994. - 572 p.

F.F. Komarov, A.P. Novikov, A.F. Burenkov.(1994). Ionnaya implantatsiya [Ion implantation] / Minsk: Universitetskae, 303.

I.I. Aksenov, A.A. Andreev, V.G. Bren.(1979). Pokryitiya, poluchennyie kondensatsiey plazmennyih potokov v vakuume (sposob kondensatsii s ionnoy bombardirovkoy) [Coatings obtained by condensation of plasma streams in a vacuum (ion bombardment condensation method)] // UFZh - Ukrainian Journal of Physics, Vol. 24, 4, 515 – 525.

Anders A. Fundamentals of pulsed plasma for materials processing / A. Anders // Surface and coatings technology. 2004. V.183. P. 301 311.

Metel A. Plasma immersion ion implantation based on glow discharge with electrostatic confinement of electrons / A. Metel // Surface and coatings technology. 2002 V.156. Pp. 38 - 43

Ide-eqsaba A. Characteristics of an ion beam modification system with a linear ion source / A. Ide-Ektessabi, N.Y. Okuyama, D. Okuyama. // Review of scientific instruments. 2002. V.73, №2. Pp. 873 - 876.

Magnetic control of breakdown: Toward energy-efficient hollow-cathode magnetron discharges [Text] / O. Baranov, M. Romanov, S. Kumar, X. Zhong, K. Ostrikov // Journal of Applied Physics. 2011. - Vol. 109, No. 6. - P. 063304-1-063304-8.

Baranov, O. O.(2014). Teoreticheskaya model razryada magnetronnogo raspyilitelnogo ustroystva [Theoretical model of discharge of magnetron spray device] // Otkryityie informatsionnyie i kompyuternyie integrirovannyie tehnologii: sb. nauch. tr. Nats. aerokosm. un-ta im. N. E. Zhukovskogo «HAI» -Open information and computer integrated technologies: scientific journal of National aerospace university. N. E. Zhukovsky "KhAI",Vol. 64,102–119.

Wang Z. Geometrical aspects of a hollow-cathode planar magnetron / Z. Wang, S.A. Cohen // Physics of Plasma. 1999. - V.6. P. 1655 - 1666.


Пристатейна бібліографія ГОСТ


1. Anders A. From plasma immersion ion implantation to deposition: a historical perspective on principles and trends / A. Anders // Surface and coatings technology. – 2002. №156. P. 3 – 12.

2. Lieberman M.A. Principles of plasma discharges for materials processing / M.A. Lieberman, A.J. Lichtenberg. // New York: Wiley Interscience, 1994. – 572 p.

3. Ф.Ф. Комаров, А.П. Новиков, А.Ф. Буренков. Ионная имплантация /– Минск: Унiверсiтэцкае, 1994. – 303 с.

4. И.И. Аксенов, А.А. Андреев, В.Г. Брень. Покрытия, полученные конденсацией плазменных потоков в вакууме (способ конденсации с ионной бомбардировкой) / // УФЖ. 1979. Т. 24, №4, C. 515 – 525.

5. Anders A. Fundamentals of pulsed plasmas for materials processing / A. Anders // Surface and coatings technology. 2004. V.183. P. 301 311.

6. Metel A. Plasma immersion ion implantation based on glow discharge with electrostatic confinement of electrons / A. Metel // Surface and coatings technology. 2002. V.156. P. 38 – 43.

7. Ide-Ektessabi A. Characteristics of an ion beam modification system with a linear ion source / A. Ide-Ektessabi, N.Y. Okuyama, D. Okuyama. // Review of scientific instruments. 2002. V.73, №2. P. 873 – 876.

8. Magnetic control of breakdown: Toward energy-efficient hollow-cathode magnetron discharges [Текст] / O. Baranov, M. Romanov, S. Kumar, X. Zhong, K. Ostrikov // Journal of applied physics. 2011. – V. 109, № 6. – P. 063304-1–063304-8.

9. Баранов, О. О. Теоретическая модель разряда магнетронного распылительного устройства // Открытые информационные и компьютерные интегрированные технологии: сб. науч. тр. Нац. аэрокосм. ун-та им. Н. Е. Жуковского «ХАИ». – Вып. 64. – Х., 2014. – C. 102–119.

10. Wang Z. Geometrical aspects of a hollow-cathode planar magnetron / Z. Wang, S.A. Cohen // Physics of plasmas. 1999. – V.6. P. 1655 – 1666.